片狀煅燒氧化鋁 PWA

片狀煅燒氧化鋁 PWA

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片狀煅燒氧化鋁 PWA

片狀氧化鋁的氧化鋁純度大於99%,具有耐熱、耐酸鹼腐蝕、硬度高的特點。與傳統的磨料球形顆粒不同,扁平剛玉的底面是平坦的,磨削時顆粒與工件表面貼合,產生滑動磨削效果,避免了顆粒尖角劃傷工件表面。工件。另一方面,板狀氧化鋁在磨削時,磨削壓力均勻分佈在顆粒表面,顆粒不易破碎,耐磨性提高,從而提高磨削效率和表面光潔度。

PWA是一種白色煅燒氧化鋁磨料粉末,由氧化鋁(Al 2 O 3 ) 片狀晶體組成,純度超過99.0%。

  • 化學惰性
  • 不會被酸或鹼腐蝕
  • 優異的耐熱性能
  • 比大多數製造商提供的統一等級數量更多

粒度分佈受到嚴格控制,可產生非常精細的研磨表面,可實現廣泛的應用,例如:

  • 研磨劑用於:
    • 光學材料
    • 液晶
    • 不銹鋼
    • 其他材料
  • 塗料用填充材料
  • 研磨布或紙的材料
  • 與金屬或合成樹脂結合的配合劑
粒徑 顆粒分佈(微米) 筆記
最大粒徑 d 03時的粒徑 d 50時的粒徑 d 94時的粒徑
45 < 82.9 53.4 ± 3.20 34.9 ± 2.30 22.8 ± 1.80 停產
WCA40 < 77.8 41.8 ± 2.80 29.7 ± 2.00 19.0 ± 1.00
WCA35 < 64.0 37.6 ± 2.20 25.5 ± 1.70 16.0 ± 1.00
WCA30 < 50.8 30.2 ± 2.10 20.8 ± 1.50 14.5 ± 1.10
WCA25 < 40.3 26.3 ± 1.90 17.4 ± 1.30 10.4 ± 0.80
WCA20 < 32.0 22.5 ± 1.60 14.2 ± 1.10 9.00 ± 0.80
WCA15 < 25.4 16.0 ± 1.20 10.2 ± 0.80 6.30 ± 0.50
WCA12 < 20.2 12.8 ± 1.00 8.20 ± 0.60 4.90 ± 0.40
WCA9 < 16.0 9.70 ± 0.80 6.40 ± 0.50 3.60 ± 0.30
WCA5 < 12.7 7.20 ± 0.60 4.70 ± 0.40 2.80 ± 0.25
WCA3 < 10.1 5.20 ± 0.40 3.10 ± 0.30 1.80 ± 0.30

對於半導體矽片等半導體材料,板狀氧化鋁的應用可以減少研磨時間,大大提高研磨效率,減少研磨機的損耗,節省人工和研磨成本,提高研磨合格率。品質接近國外知名品牌。

顯像管玻殼磨削工作效率提高3-5倍;

合格品率提高10-15%,半導體晶圓合格率達到99%以上;

研磨消耗比普通氧化鋁拋光粉減少40-40%;

化學成分供應—片狀煅燒氧化鋁PWA

三氧化二鋁 ≥99.0%
二氧化矽 <0.2
三氧化二鐵 <0.1
氧化鈉 <1

物理特性

材料 α-Al2O3
顏色 白色的
比重 ≥3.9克/立方厘米
莫氏硬度 9.0

產品應用範圍:片狀煅燒氧化鋁PWA

1)電子行業:半導體單晶矽片、石英石英晶體、化合物半導體(晶鎵、磷化納米)的研磨拋光。

2)玻璃行業:水晶、石英玻璃、顯像管玻璃殼屏、光學玻璃、液晶顯示器(LCD)玻璃基板、石英晶體的研磨加工。

3)塗料行業:等離子噴塗專用塗料、填料。

4)金屬陶瓷加工業:精密陶瓷材料、燒結陶瓷原料、高檔高溫塗料等。

 

包裝:10公斤/袋,20公斤/箱

商品評價

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